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Principe de la PVD

 

Son produit, revêtements métalliques et/ou céramiques, peut être appliqué sur tout substrat supportant une mise sous vide et un léger échauffement. La synthèse du film sur la pièce à revêtir est obtenue par la pulvérisation, dans une enceinte à vide, d’une source solide communément appelée cible. La pulvérisation de la cible résulte de son bombardement par des ions argon, générés par le plasma créé entre la cible et les parois de l’enceinte. Voir figure ci-contre.

Les domaines d’application de ce procédé sont nombreux.

 

 

Principe de la PVD en mode réactif

 

Notre technologie est basée sur la pulvérisation cathodique magnétron conventionnelle. Si la synthèse d’un revêtement de métal pur s’effectue en présence d’un gaz inerte (l’argon), les composés (nitrures, carbures, oxydes) peuvent être obtenus dans des atmosphères réactives (mélanges gazeux) qui contiennent à la fois l’argon nécessaire à la pulvérisation et le gaz réactif nécessaire à la formation d’un composé.
Exemple : introduction d’un mélange argon plus azote dans l’enceinte sous vide avec pulvérisation d’une source en titane pour la synthèse d’un composé du type TiN. Voir figure ci-contre.